第22回：「エクセル活用：事例CMP」


　セルボニクスのパテントレポートDBでは、（着色、リンク付）テーブル形式を
主なデータ形式にしています。これは、全体を概観することが容易、詳細データ
へのアクセスが容易であるという特徴があるからなのですが、それ以外にデータ
の再利用が間単にできるという特徴があります。今回は、WEBデータをエクセル
に取り込みそれを加工することをCMPを題材にして、見ていきたいと思います。

　題材とするCMPは、chemical mechanical polishと言われるもので、半導体の製造プロセスで、平坦化：平らにする工程にあたるものです。
データトップのURLは
http://www.cerbonics.net/~semi/PAY/CMP/index.htm
です。

　では、以下の手順に沿って、行ってみてください。（オフィス２０００を用いています。）
（１）データをエクセルに取り込む
http://www.cerbonics.net/~semi/PAY/CMP/htm/AN_pri_year/ROOT_st.html
を開いてください。IEのメニュー：「ファイル>名前を付けて保存」を使って、WEBデータのこのページをパソコンに保存してください。
　次に、エクセルを起動して、エクセルのメニュー：「ファイル>開く」でポップアップメニューを出したら、ファイルの種類としてWEBページを指定して、先ほど保存したページを取り込んでください。これでエクセルにデータを取り込むことができました。念のために、エクセル形式でデータをセーブしておきましょう。

（２）リンクを確認
エクセル形式になっても、数字に設定されているリンクが生きていることを確認してください。数字をクリックすると特許リストが出てきます。

（３）データの絞込み
総件数の多い企業を選択してみましょう。
カーソルをデータの一番上に持って行っておいて、エクセルのメニュー：データ＞フィルタ＞オートフィルタにチェックを入れてください。こうするとSUMや年次のところに下向き三角形が現れ、それを押さえるとプルダウンメニューが現れます。SUMのところでTOPテンを選んで離すと総件数が上位１０のものだけが表示されます。

（４）グラフの作成：この絞り込んだデータを用いてグラフを書いてみましょう。
セレクトしていつものようにグラフが書ければいいのですが、どうもオフィスの制限のためにうまくいきません。そこで、別にエクセルページを新規作成して、１社ごと横方向にセレクトして新規ページにコピーペーストして作成してください。これを用いてグラフを作成します。作成したグラフは、
http://www.cerbonics.net/~semi/PAY/CMP/top10.pdf　でご覧いただけます。
ここで、横軸は技術起源年（ParentCaseも考慮した優先年）、縦軸はその年を起源とする成立特許件数です。

（５）グラフを眺める。
●９７，９８、９９年に開発競争が激化していたようです。主プレイヤーは、AMD,IBM,TSMC,UMCなどです。
●マイクロンの動きに特徴があります。９２年と９６年にピークがある２こぶになっています。

（６）マイクロンについて探る。
マイクロンの特徴ある動きは、その（前）年に多くの特徴ある技術が生まれたか、もしくはその（前）年に生まれた特許を特許対策によって育てようとしているのかどちらかになります。先ほどのエクセルデータの９２年のピークをクリックして、特許リストを出して、それをパソコンにセーブしてください。

（７）特許リストをエクセルに取り込む
ここで、特許タイトルでソートをかけたいのですが、オフィスの制限でできないようです。そこで、いったんTAB区切りのデータでテキストセーブしておいて、そのデータを再度開くことで、特許タイトルでソートをかけることができます。（オフィスの制限にかかっている余分な情報を落としたことになっています。）

（８）考察：９２年では
5,540,810 IC mechanical planarization process incorporating two slurry compositions for faster material removal times.
5,994,224 IC mechanical planarization process incorporating two slurry compositions for faster material removal times.
6,040,245 IC mechanical planarization process incorporating two slurry compositions for faster material removal times.
群と
5,186,670 Method to form self-aligned gate structures and focus rings.
5,259,799 Method to form self-aligned gate structures and focus rings.
5,229,331 Method to form self-aligned gate structures around cold cathode emitter tips using chemical mechanical polishing technology.
5,372,973 Method to form self-aligned gate structures around cold cathode emitter tips using chemical mechanical polishing technology.
が目を引きます。これで、育てようとしている特許とその技術起源を把握することができました。
同じことを９６年起源のものについて行ってみると

5,998,244 Memory cell incorporating a chalcogenide element and method of making same.
6,236,059 Memory cell incorporating a chalcogenide element and method of making same.
6,153,890 Memory cell incorporating a chalcogenide element.

5,663,797 Method and apparatus for detecting the endpoint in chemical-mechanical polishing of semiconductor wafers.
5,910,846 Method and apparatus for detecting the endpoint in chemical-mechanical polishing of semiconductor wafers.
6,108,092 Method and apparatus for detecting the endpoint in chemical-mechanical polishing of semiconductor wafers.
6,191,864 Method and apparatus for detecting the endpoint in chemical-mechanical polishing of semiconductor wafers.

という特許群が見えてきます。これらが重要な特許群であると思われます。

（９）商用DBのパテントファミリーで確認するとより確実です。

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　　探検隊長より

今回は、CMPを素材に、TIPS的な内容にしてみました。
お役に立てれば幸いです。
　なお、CDR版では、より強力な独自ツールを用いて種々のご希望にお答えできます。

ご感想、ご要望などありましたら、
"T.Yamada" <toyamada@cerbonics.com>まで、いただけましたら幸いです。